投資摘要：

光刻機被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠，光刻是半導體芯片生產中最復雜、關鍵一環(huán)。光刻機是芯片制造流程中的核心設備，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程、性能，被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠。光刻是半導體芯片生產中最復雜、關鍵步驟，耗時長、成本高。光刻機原理類似相機照相，發(fā)出光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后發(fā)生性質變化，使圖形復印到薄片上，使薄片具電子線路圖作用。其中分辨率直接決定制程，是最重要的指標；套刻精度影響良率；生產效率影響產能及經濟性。

光刻機可分為直寫光刻機與掩膜光刻機，市場主流有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大類。掩膜光刻機由光源發(fā)出光束，經掩膜板在感光材料上成像，又可分為接近、接觸式及投影式，投影式為主流，還可分為UV、DUV、EUV。直寫式光刻機用計算機控制光束投影至涂感光材料的基材上，無掩膜進行曝光，又可分為光學直寫、帶電粒子直寫。直寫光刻機在半導體應用領域窄，體量小，是掩膜光刻機的補充。市場主流光刻機有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大類。

光刻機產業(yè)鏈上游所需零件設備眾多復雜，下游半導體市場驅動行業(yè)發(fā)展。零件、組件和設備為上游供應。下游市場主要為半導體市場，全球半導體市場規(guī)模穩(wěn)步擴張，使光刻機需求穩(wěn)步增長。受益于晶圓需求增長、服務器云計算與5G 基礎建設發(fā)展，全球光刻機市場規(guī)模平穩(wěn)增長， 2023 年全球光刻機市場規(guī)模增至271.3 億美元，預計2024 年達295.7 億美元。2022年全球光刻機銷售結構以中、低端KrF、i -Iine 為主，占比約71.5%，高端ArFi、ArF 和超高端EUV 占比較小，分別為15.4%、5.8%和7.3%。

從全球光刻機競爭格局看，光刻機市場由國外企業(yè)主導。ASML 占絕對霸主地位，2022 年市場份額占比82.1%，Canon 占比10.2%，Nikon 占比7.7%，上海微電子為國內唯一巨頭。超高端光刻機EUV 領域ASML 獨占鰲頭，高端光刻機ArFi 和ArF 領域也主要由ASML 占領；Canon 主要集中在i-Iine 領域；Nikon 除EUV 外均有涉及。2022 年光刻機國產化率僅2.5%，上海微電子為國內唯一巨頭。

復盤海外龍頭ASML 成長之路：四十載砥礪前行，成就全球光刻機龍頭。1980 年代ASML 初出茅廬，與知名透鏡制造商卡爾蔡司建立合作。1990 年代，ASML 推出PAS 5500，使ASML 名聲大噪。2000 年代，雙工作臺、浸沒式光刻技術助力ASML成為行業(yè)絕對的龍頭。2010 年代，ASML 第一臺EUV 光刻機問世，收購業(yè)內一眾領先廠商。2020 年代，ASML 將EUV 光刻機推進至High NA 時代。

ASML 光刻機產品全面豐富，浸入式行業(yè)領先，EUV 為其獨有。ASML 擁有EUV、DUV 兩大光刻系統(tǒng)，DUV 包括浸入式系統(tǒng)、干式系統(tǒng)，EUV 包括EXE、NXE。ASML 浸入式在生產力、成像和覆蓋性能方面處行業(yè)領先，適用最先進邏輯和內存芯片的大批量生產。 EUV 技術為其獨有。得益于NXE 和DUV 浸入式系統(tǒng)量價齊升，2023 年ASML 實現(xiàn)營業(yè)收入275.59億歐元，凈利潤78.39 億歐元。預測將于2025 年實現(xiàn)約300 億歐元至400 億歐元的年銷售額，毛利率約為54%至56%。

ASML 通過不斷研發(fā)投入、技術創(chuàng)新，通過產業(yè)鏈上下游收購不斷拓寬護城河。2023 年ASML 研發(fā)投入39.81 億歐元，同比增長22.35%，以支持其牢牢占據(jù)高端市場；同時其注重產業(yè)鏈協(xié)同效應，在上游進行有針對性的收購或股權投資，與下游客戶建立密切合作關系；并與客戶、供應商、研究合作伙伴、同行共建創(chuàng)新生態(tài)系統(tǒng)；使其龍頭地位不斷鞏固。

海外龍頭企業(yè)發(fā)展歷程對于國內光刻機企業(yè)發(fā)展的啟示：1）持續(xù)高水平研發(fā)投入，堅持創(chuàng)新。打破國內外光刻機巨頭的技術壁壘，需要持續(xù)高水平投入研發(fā)資金，堅持產品技術創(chuàng)新。2）重視產業(yè)鏈協(xié)同，深度綁定上下游，構建利益共同體?？梢圆扇〔①徎蚝献鞯姆椒ń壎ㄉ舷掠纹髽I(yè)，構建企業(yè)生態(tài)圈，發(fā)揮產業(yè)鏈協(xié)同效應。

政策大力支持，國產光刻機行業(yè)初露鋒芒。1）上海微電子：國產光刻機唯一巨頭，SSX600 系列光刻機較具代表性。 2）炬光科技：深耕激光元器件，激光雷達、泛半導體、醫(yī)療健康多產業(yè)布局。 3）茂來光學：領軍國內工業(yè)級精密光學，實現(xiàn)九項核心技術產業(yè)化，公司光刻機曝光物鏡超精密光學元件加工技術已實現(xiàn)產業(yè)化。4）福晶科技：全球光學晶體龍頭，“晶  投資摘要：

光刻機被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠，光刻是半導體芯片生產中最復雜、關鍵一環(huán)。光刻機是芯片制造流程中的核心設備，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程、性能，被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠。光刻是半導體芯片生產中最復雜、關鍵步驟，耗時長、成本高。光刻機原理類似相機照相，發(fā)出光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后發(fā)生性質變化，使圖形復印到薄片上，使薄片具電子線路圖作用。其中分辨率直接決定制程，是最重要的指標；套刻精度影響良率；生產效率影響產能及經濟性。

光刻機可分為直寫光刻機與掩膜光刻機，市場主流有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大類。掩膜光刻機由光源發(fā)出光束，經掩膜板在感光材料上成像，又可分為接近、接觸式及投影式，投影式為主流，還可分為UV、DUV、EUV。直寫式光刻機用計算機控制光束投影至涂感光材料的基材上，無掩膜進行曝光，又可分為光學直寫、帶電粒子直寫。直寫光刻機在半導體應用領域窄，體量小，是掩膜光刻機的補充。市場主流光刻機有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大類。

光刻機產業(yè)鏈上游所需零件設備眾多復雜，下游半導體市場驅動行業(yè)發(fā)展。零件、組件和設備為上游供應。下游市場主要為半導體市場，全球半導體市場規(guī)模穩(wěn)步擴張，使光刻機需求穩(wěn)步增長。受益于晶圓需求增長、服務器云計算與5G 基礎建設發(fā)展，全球光刻機市場規(guī)模平穩(wěn)增長， 2023 年全球光刻機市場規(guī)模增至271.3 億美元，預計2024 年達295.7 億美元。2022年全球光刻機銷售結構以中、低端KrF、i -Iine 為主，占比約71.5%，高端ArFi、ArF 和超高端EUV 占比較小，分別為15.4%、5.8%和7.3%。

從全球光刻機競爭格局看，光刻機市場由國外企業(yè)主導。ASML 占絕對霸主地位，2022 年市場份額占比82.1%，Canon 占比10.2%，Nikon 占比7.7%，上海微電子為國內唯一巨頭。超高端光刻機EUV 領域ASML 獨占鰲頭，高端光刻機ArFi 和ArF 領域也主要由ASML 占領；Canon 主要集中在i-Iine 領域；Nikon 除EUV 外均有涉及。2022 年光刻機國產化率僅2.5%，上海微電子為國內唯一巨頭。

復盤海外龍頭ASML 成長之路：四十載砥礪前行，成就全球光刻機龍頭。1980 年代ASML 初出茅廬，與知名透鏡制造商卡爾蔡司建立合作。1990 年代，ASML 推出PAS 5500，使ASML 名聲大噪。2000 年代，雙工作臺、浸沒式光刻技術助力ASML成為行業(yè)絕對的龍頭。2010 年代，ASML 第一臺EUV 光刻機問世，收購業(yè)內一眾領先廠商。2020 年代，ASML 將EUV 光刻機推進至High NA 時代。

ASML 光刻機產品全面豐富，浸入式行業(yè)領先，EUV 為其獨有。ASML 擁有EUV、DUV 兩大光刻系統(tǒng)，DUV 包括浸入式系統(tǒng)、干式系統(tǒng)，EUV 包括EXE、NXE。ASML 浸入式在生產力、成像和覆蓋性能方面處行業(yè)領先，適用最先進邏輯和內存芯片的大批量生產。 EUV 技術為其獨有。得益于NXE 和DUV 浸入式系統(tǒng)量價齊升，2023 年ASML 實現(xiàn)營業(yè)收入275.59億歐元，凈利潤78.39 億歐元。預測將于2025 年實現(xiàn)約300 億歐元至400 億歐元的年銷售額，毛利率約為54%至56%。

ASML 通過不斷研發(fā)投入、技術創(chuàng)新，通過產業(yè)鏈上下游收購不斷拓寬護城河。2023 年ASML 研發(fā)投入39.81 億歐元，同比增長22.35%，以支持其牢牢占據(jù)高端市場；同時其注重產業(yè)鏈協(xié)同效應，在上游進行有針對性的收購或股權投資，與下游客戶建立密切合作關系；并與客戶、供應商、研究合作伙伴、同行共建創(chuàng)新生態(tài)系統(tǒng)；使其龍頭地位不斷鞏固。

海外龍頭企業(yè)發(fā)展歷程對于國內光刻機企業(yè)發(fā)展的啟示：1）持續(xù)高水平研發(fā)投入，堅持創(chuàng)新。打破國內外光刻機巨頭的技術壁壘，需要持續(xù)高水平投入研發(fā)資金，堅持產品技術創(chuàng)新。2）重視產業(yè)鏈協(xié)同，深度綁定上下游，構建利益共同體?？梢圆扇〔①徎蚝献鞯姆椒ń壎ㄉ舷掠纹髽I(yè)，構建企業(yè)生態(tài)圈，發(fā)揮產業(yè)鏈協(xié)同效應。

政策大力支持，國產光刻機行業(yè)初露鋒芒。1）上海微電子：國產光刻機唯一巨頭，SSX600 系列光刻機較具代表性。 2）炬光科技：深耕激光元器件，激光雷達、泛半導體、醫(yī)療健康多產業(yè)布局。 3）茂來光學：領軍國內工業(yè)級精密光學，實現(xiàn)九項核心技術產業(yè)化，公司光刻機曝光物鏡超精密光學元件加工技術已實現(xiàn)產業(yè)化。4）福晶科技：全球光學晶體龍頭，“晶體+光學元件+激光器件”一站式服務。4）波長光電：國內激光光學元件的主要供應商，目前，公司已具備提供光刻機配套的大孔徑光學鏡頭的能力，公司成功開發(fā)的光刻機平行光源系統(tǒng)可用于國產光刻機領域配套。

投資策略：光刻機是國之重器，也是目前半導體工藝中被“卡脖子”最為嚴重的半導體設備之一?；趯鴥劝雽w行業(yè)政策以及對于國內半導體設備國產化趨勢的分析，我們認為，國產光刻機行業(yè)有望通過技術攻堅和上下游協(xié)同的形式實現(xiàn)彎道超車，關注上海微電子等相關公司的客戶突破與產品突破，受益標的：福晶科技、茂來光學、炬光科技、波長光電等。

風險提示：技術迭代風險、行業(yè)景氣度下行、行業(yè)競爭加劇、中美貿易摩擦加劇

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轉自東興證券股份有限公司 研究員：劉航